一、产品定位与核心价值

二、核心性能与设计优势

1. 射频等离子 + 真空腔体设计配备不锈钢圆形真空腔体与 RF 射频电源，可在低真空环境下产生均匀等离子体，实现无损伤的表面清洗、活化、去胶与亲水化改性，处理效果均匀且可控。
2. 稳定的真空与工艺控制集成真空泵组与真空控制模块，可精准调节腔体真空度；支持气体流量、RF 功率、处理时间等参数自定义，适配不同材料与工艺需求，保障批次间处理效果一致性。
3. 移动式工业结构采用带脚轮的机架式设计，便于实验室 / 车间移动部署；腔体配备观察窗，可实时监控等离子状态；操作面板集成仪表与控制旋钮，直观便捷，支持手动 / 半自动模式。
4. 安全与耐用性具备过压、过流、过热保护与真空联锁机制，操作安全；腔体与管路采用耐腐蚀不锈钢材质，适配 O₂、Ar、N₂等多种工艺气体，长期稳定运行。

三、适用场景与行业价值

• 半导体 / 微电子：晶圆、封装基板、MEMS 器件的表面清洗与去胶；

• 精密光学：光学镜片、滤光片的表面清洁与亲水化改性；

• 医疗器件：植入件、微流控芯片的生物相容性提升；

• 科研研发：材料表面改性、等离子工艺基础研究。

四、包装与售后服务

• 包装：定制木箱 + 缓冲材料包装，随附真空泵、气体管路、操作手册与校准证书；

• 售后：提供 1 年原厂保修服务，支持安装调试、操作培训与备件供应。