详情介绍
测量量程:50nm ~ 800μm(全系列覆盖薄膜 / 厚膜 / 极厚膜场景);
测量精度:薄膜 / 厚膜模型重复性 3σ<1.0nm,极厚膜模型 3σ<10nm,膜厚分解能达 1nm;
数据采集:支持百万级点位测量,在线型设备可实现高速数据采集;
空间分辨率:5μm ~ 300μm(分型号适配,高分辨率型可达 5μm 级);
适配样品:4~12 英寸晶圆、A4 尺寸以内板材、柔性薄膜、涂层材料等;
显示输出:自动生成膜厚分布热力图、均匀性分析报表、缺陷定位数据,支持多格式导出。
| 型号系列 | 核心适用场景 | 关键特点 |
|---|---|---|
| S 系列(标准型) | 实验室多品类膜层检测、晶圆厚度均匀性监控 | 全量程覆盖,可切换薄膜 / 厚膜 / 极厚膜测量模式 |
| H 系列(高分辨率型) | 半导体晶圆局部高精度检测、研发级微膜层分析 | 适配 6 英寸晶圆,支持 5μm 级高分辨率点测 |
| Inline 型(在线型) | 薄膜产线在线检测、量产型晶圆工艺监控 | 产线集成设计,IP65 防护可选,兼容产线运行 |
非接触无损测量:无需接触样品表面,避免基材损伤,适配精密膜层与易碎样品;
全量程适配:从 50nm 超薄膜到 800μm 极厚膜,一套设备覆盖多类工业膜层检测需求;
可视化输出:自动生成热力图与分析报告,数据直观易懂,降低数据解读成本;
多形态兼容:支持桌面式、落地式、产线集成式三种安装形态,适配实验室与工业产线;
运行稳定:工业级硬件配置,工作温度 10℃~35℃,适配国内工业环境稳定运行。