详情介绍
高压单元产生 - 20kV、100ns 的极窄脉冲,快速击穿气体形成初始等离子体;
控制单元同步切换至 - 1kV 低压平台,持续维持等离子体放电,避免电弧或断弧,实现稳定处理;
重复频率 100Hz~10kHz 可调,占空比<10%,可根据工艺需求控制等离子体生成的周期与密度。
| 参数项 | 规格说明 |
|---|---|
| 放电起始电压 | -20kV(峰值) |
| 放电维持电压 | -1kV(平台电压) |
| 输出电流 | 1A(峰值) |
| 起始脉冲宽度 | 100ns |
| 维持脉冲宽度 | 10μs~1ms 可调 |
| 重复频率 | 100Hz~10kHz 可调 |
| 工作模式 | 两段式阶梯脉冲 |
高效等离子激发:两段式脉冲设计大幅降低起弧难度,减少高压持续输出带来的电极损耗与设备发热,延长系统寿命;
宽范围工艺适配:脉冲宽度、频率可调,可适配从微秒级短脉冲到毫秒级长放电的多种工艺需求;
高稳定性低维护:采用固态半导体开关器件,无机械触点磨损,可长时间连续稳定运行,降低维护成本;
分体式灵活配置:发生器与控制单元独立设计,便于安装调试与后期维护,适配不同设备集成场景。
工业材料处理:高分子材料表面活化、金属 / 塑料表面改性,提升粘接与涂覆附着力;
环保与废气处理:VOCs 分解、烟气脱硫脱硝等低温等离子体处理;
科研与开发:等离子体物理实验、新型放电工艺验证与设备开发。