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日本 SAKIGAKE 魁半导体 液中等离子装置
参考价：￥10

型号：DKN-128

更新时间：2026-05-14  |  阅读：32

详情介绍

一、产品概述

日本 SAKIGAKE 魁半导体 液中等离子装置DKN-128，是专为粉体材料表面改性、溶液中反应处理设计的桌面式设备。它采用液中直接放电技术，在溶液中产生等离子体，同时利用等离子体的化学活性与冲击波效应，实现材料表面活化、粉体解聚与溶液处理，无需真空腔室，为实验室研究与小批量生产提供便捷的处理方案。

二、核心特点

✅ 液中直接放电，无需真空环境设备可在常压溶液中直接产生等离子体，样品可直接浸没在溶液中处理，避免干燥、氧化等影响，尤其适合粉体、多孔材料的均匀改性。
✅ 等离子体 + 冲击波协同处理放电过程中产生的冲击波可同步解聚粉体团聚，同时等离子体实现表面活化，提升后续涂层、电镀工艺的附着力与均匀性。
✅ 连续运行模式，适配多种处理需求支持长时间连续运行，可适配实验研究与小批量生产需求，相比传统批次式设备，大幅提升处理效率。
✅ 桌面式紧凑设计，实验室友好设备整体结构紧凑，占地面积小，无需复杂配套设施，放置在实验台即可使用，操作流程简便，降低了液相等离子处理的使用门槛。

三、基础参数

项目详情
品牌SAKIGAKE（魁半导体，日本）
型号DKN-128
处理方式液中等离子放电处理，常压运行
核心功能粉体表面改性、镀前预处理、溶液中化学反应促进、粉体解聚
适配样品形态薄膜状、粉粒体、管状等多种形状样品
外形尺寸(W)685mm × (D)425mm × (H)440mm

四、日本 SAKIGAKE 魁半导体 液中等离子装置DKN-128适用场景

  • 粉体材料表面改性，提升金属、非金属粉体的分散性与表面活性

  • 粉体镀前预处理，优化表面状态，提升镀层附着力

  • 材料科学研究，如溶液中材料表面改性、纳米材料合成、有机污染物降解实验

  • 小型精密部件的液相清洗与表面活化处理


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