详情介绍
| 项目 | 详情 |
|---|---|
| 品牌型号 | Bunkoukeiki KV-200 真空极紫外光谱仪(VUV真空单色仪) |
| 分光波段 | 120 nm ~ 300 nm 真空极紫外波段 |
| 核心功能 | 真空紫外透射/反射/发射光谱分光采集,真空光学元件光学特性标定 |
| 核心应用 | 半导体薄膜、等离子体放电、同步辐射、航天真空光学、原子分子物理实验室 |
| 参数项 | 标准规格 |
|---|---|
| 光路腔体 | 全金属真空密封腔体,需高真空运行隔绝空气紫外吸收 |
| 光学元件 | 氟化镁MgF₂基底VUV衍射光栅、氟化镁真空透光窗口 |
| 波长驱动 | 步进电机程控扫描,连续光谱/定点锁波双模式 |
| 接口规格 | 通用标准真空法兰,可对接各类真空实验腔体 |
| 工作环境 | 外部10~35℃洁净实验室,光路内部高真空无氧气、水汽 |
| 拓展配套 | 多刻线替换光栅、真空变温样品载台、光束聚焦透镜、真空检漏套件可选加装 |
120–200nm深紫外光会被空气中氧气吸收,整机一体化真空密封光路,无需持续氮气吹扫,真空环境下可稳定采集极紫外光谱,基线平稳无吸收干扰。
光栅、透光窗口全部采用氟化镁基底材质,对比普通石英紫外光谱仪,在120–300nm波段透光性能大幅提升,弱信号等离子、超薄薄膜样品也可获得高信噪比光谱曲线。
分光光路与真空密封舱集成一体,整机体积小巧,无需搭建大型真空分光平台,台式等离子实验台、小型薄膜真空镀膜产线均可配套使用。
软件支持全波段连续光谱扫描用于静态样品全光谱分析;也可锁定单一特征波长长时间采集,监测等离子放电、薄膜变温过程光学参数动态变化。
入射、出射端采用通用工业真空法兰,可直接对接等离子放电腔体、真空薄膜沉积设备、同步辐射光束管线,无需定制转接工装,现场管路搭建便捷。
提供多种刻线密度替换光栅,高刻线光栅实现精细高分辨率光谱分析;低刻线光栅适配宽波段快速扫描,兼顾实验分辨率与检测效率。
腔体采用特种合金密封结构,长期极紫外光照不会老化漏气,可适配稀有气体等离子、微量腐蚀尾气真空实验工况。
配套标准紫外校准光源标样,可定期完成整机波长精度校验,光谱数据可用于学术论文、企业研发质检报告,计量合规完整。
半导体光电实验室:深紫外光刻薄膜、氟化镁光学基底、UV发光器件真空紫外透射/反射光谱质控;
等离子体科研平台:稀有气体放电等离子体极紫外发射光谱分析,监测等离子组分、电子温度动态变化;
同步辐射光束线实验室:真空紫外分支光束分光、光束能量分布标定、光束线光学元件损耗检测;
真空镀膜薄膜研发:深紫外介质薄膜、航天光学窗口镀膜真空紫外光学性能测试;
高校原子分子物理实验室:原子分子真空紫外吸收、激发态能级光谱基础科研与教学实验;
航天光学检测实验室:空间深紫外探测镜头、航天光学元件模拟太空真空环境性能测试。