日本 KDF‑75Plus 桌上型真空气体置换炉

KDF‑75Plus桌上型真空气体置换炉是日本KDF推出的小型气氛热处理设备，整机为桌上台式结构，可以直接安置在实验台面上，无需专门大型设备场地。设备集成密闭热处理腔体、加热模块、多路气体流量控制组件、真空压力监测仪表以及数显温控操作面板，炉门配置观察窗口，便于实验过程观察样品状态。

设备工作流程可完成真空抽取与保护气体置换，先将炉腔内部抽至真空状态，再通入氩气、氮气等惰性保护气体，在低氧气氛条件下完成样品烧结、退火、烘烤、脱胶等热处理工艺，有效防止试样在高温环境下发生氧化变质。设备面板可直接设定目标温度、升温程序、保温时长以及各路保护气体流量，真空压力表实时反馈腔体内压力状态。内置超温保护机制，出现温度异常时自动触发保护，提升实验操作安全性。

整机日本原厂装配调校，炉腔密封性能可靠，气氛环境稳定，实验数据重复性好。腔体容积适配小型试样，主要面向新材料研发场景，广泛服务于企业研发部门以及高校材料、化工实验室，完成陶瓷、粉末、电子元器件、小型金属件的气氛热处理试验。

完整技术参数

产品核心优势

• 桌上台式小型机身，放置于实验台即可使用，节省实验室占地空间；

• 真空抽取+保护气体置换一体，构建低氧气氛，避免样品高温氧化；

• 集成流量计、真空压力表，气体流量、腔体压力直观可视，工艺可控；

• 炉门设置观察窗，可直接观察炉内样品热处理状态；

• 数显程序温控，支持升温保温设置，搭配超温保护，操作安全便捷；

• 日本原厂整机，炉腔密封性优异，气氛稳定，小试样实验重复性好。