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日本Sakigakes真空等离子体装置YHS-R 薄膜形成预处理的高效解决方案
更新时间:2025-07-29      阅读:291
在薄膜制造领域,表面预处理是确保薄膜质量的关键步骤之一。日本Sakigakes的YHS-R真空等离子体装置凭借其高效、紧凑的设计,为薄膜形成前的预处理提供了一种理想的解决方案。

设备特点

YHS-R是一款桌面型真空等离子体装置,具有紧凑的结构和便于操作的特点。其外形尺寸为220mm(宽)×250mm(深)×300mm(高),重量仅为6.8公斤,非常适合实验室和小规模生产环境。该设备的上下电极分别采用铝和不锈钢材料,能够满足多种材料的处理需求。

薄膜形成预处理的应用

在薄膜形成前的预处理过程中,YHS-R能够有效改善基材表面的清洁度和活性,从而提高薄膜的附着力和均匀性。等离子体处理可以去除表面的有机污染物,同时引入极性基团,增强基材与薄膜之间的化学键合。这种预处理方式对于提高薄膜的性能和质量至关重要。

技术参数

  • 平台尺寸:φ100mm
  • 电源:单相100V,50/60Hz,5.0A
  • 可选支持:气体引入、压力调整、电源控制等(需额外付费)

操作与维护

YHS-R的操作非常简便,配备放电定时器和复位开关,用户可以根据需要灵活调整处理时间和操作模式。此外,设备的维护也非常方便,带有AC100V插座,便于连接和使用。

总结

日本Sakigakes的YHS-R真空等离子体装置以其高效、紧凑的设计和简便的操作,为薄膜形成前的预处理提供了一种理想的解决方案。它不仅能够显著提高薄膜的附着力和均匀性,还能有效改善基材表面的清洁度和活性。对于需要进行薄膜制造的实验室和小规模生产环境来说,YHS-R无疑是一个值得考虑的选择。


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