一、产品概述
日本北野精机 KMDW-Cell 二元金属蒸发源无，是专为超高真空（UHV）镀膜系统设计的双坩埚式电阻加热蒸发源。它通过独立的加热回路实现两种金属材料的精准控温与蒸发，可用于制备合金、化合物薄膜，广泛应用于半导体、光学器件、材料科学等领域的实验与研发。
二、核心特点
✅ 二元材料独立控制，支持共蒸镀工艺双坩埚设计，每个坩埚配备独立的加热灯丝与控温电路，可分别调节两种金属的蒸发速率，实现精确配比的合金 / 化合物薄膜沉积，满足科研工艺对材料组分的控制需求。
✅ 超高真空适配，低污染设计专为 UHV 环境优化，采用低出气率材料，可在 10⁻⁸Pa 级高真空条件下稳定工作，减少杂质污染，保障薄膜质量，适配半导体、光学等高洁净度镀膜场景。
✅ 紧凑型法兰式结构，易集成安装采用标准真空法兰接口，体积小巧，占用腔室空间小，可直接安装在各类小型真空镀膜设备上，便于集成到现有实验系统中。
✅ 可拆卸式坩埚与灯丝，维护便捷坩埚与灯丝组件可拆卸，材料更换、清洁维护操作简单，适合多批次、多材料的实验研发，降低实验成本与维护难度。
✅ 适配多种低 / 中熔点金属可对金、银、铝、铜、铬等多种金属材料进行蒸发，通用性强，满足不同实验的材料需求。
三、基础参数
| 项目 | 详情 |
|---|
| 品牌 | 北野精机（Kitano Seiki，日本） |
| 型号 | KMDW-Cell |
| 工作原理 | 电阻加热式蒸发，双坩埚独立控温 |
| 适配环境 | 超高真空（UHV）环境 |
| 安装方式 | 标准真空法兰安装 |
| 适用材料 | 金、银、铝、铜、铬等低 / 中熔点金属 |
| 结构特点 | 可拆卸式坩埚与灯丝组件，维护便捷 |
四、日本北野精机 KMDW-Cell 二元金属蒸发源无 适用场景
半导体与微电子工艺：金属电极、接触层、阻挡层的蒸镀制备，实现低电阻率金属薄膜沉积。
光学薄膜制备：金属反射膜、吸收膜的制备，适配光学器件、传感器的镀膜需求。
材料科学研究：合金薄膜、金属基复合材料的制备，用于材料性能表征与工艺研究。
基础物理实验：超高真空环境下的金属薄膜生长、表面科学研究，支持多种金属材料的可控沉积。
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